Nanoscale and Spatial Variations Investigation of Etch Damage in Integrated Ferroelectric Capacitor Side Wall by Piezoresponse Force Microscopy

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2009-01, Vol.48 (1R), p.11401
Hauptverfasser: Wang, Longhai, Dai, Ying, Deng, Zhao
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.48.011401