Characteristics of Silicon Dioxide Film Deposited by Neutral Beam-Assisted Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2008-12, Vol.47 (12R), p.8905
Hauptverfasser:	Im, Young, Lee, Jung Hee, Lee, Youn-Seoung, Lee, Won-Jun, Rha, Sa-Kyun
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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