Narrow Line Effect of Nickel Silicide on p + Active Lines and Its Suppression by Fluorine Ion Implantation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2008-12, Vol.47 (12R), p.8761
Hauptverfasser:	Yamaguchi, Tadashi, Kashihara, Keiichiro, Okudaira, Tomonori, Asai, Koyu, Miyatake, Hiroshi, Yoneda, Masahiro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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