Reliable Characterization of Microcrystalline Silicon Films for Thin Film Transistor Applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2008-09, Vol.47 (9R), p.7308
Hauptverfasser: Abramov, Alexey, Cabarrocas, Pere Roca i, Girotra, Kunal, Chen, Hong, Park, Seungkyu, Park, Kyongtae, Huh, Jong-moo, Choi, Joonhoo, Kim, Chiwoo, Souk, Jun H.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.47.7308