Characterization of Al-Based Insulating Films Fabricated by Physical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2008-01, Vol.47 (1S), p.609
Hauptverfasser: Nakakuki, Masahide, Shiono, Akihiro, Kobayashi, Isao, Tajima, Noriaki, Yamakami, Tomohiko, Hayashibe, Rinpei, Abe, Katsuya, Kamimura, Kiichi, Obata, Motoki, Miyamoto, Mitsunori
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.47.609