Thermal Stability of HfO 2 Films Fabricated by Metal Organic Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2008-01, Vol.47 (1R), p.31, Article 31
Hauptverfasser:	Nagasato, Yoshitaka, Iwazaki, Yoshitaka, Hasumi, Masahiko, Ueno, Tomo, Kuroiwa, Koichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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