Nanoscale Stress Field Evaluation with Shallow Trench Isolation Structure Assessed by Cathodoluminescence Spectroscopy, Raman Spectroscopy, and Finite Element Method Analyses

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2008-04, Vol.47 (4S), p.2506
Hauptverfasser: Kodera, Masako, Iguchi, Tadashi, Tsuchiya, Norihiko, Tamura, Mizuki, Kakinuma, Shigeru, Naka, Nobuyuki, Kashiwagi, Shinsuke
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.47.2506