Suppression of Metamorphoses of Metal/High-k Gate Stack by Low-Temperature, Cl-Free SiN Offset Spacer, and Its Impact on Scaled Metal–Oxide–Semiconductor Field-Effect Transistors

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2008-04, Vol.47 (4S), p.2375
Hauptverfasser:	Mise, Nobuyuki, Matsuki, Takeo, Watanabe, Toshinari, Morooka, Tetsu, Eimori, Takahisa, Nara, Yasuo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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