Direct Patterning of Silicon Nitride Thin Film by Projection Photoablation for Fabricating Thin-Film Transistor Liquid Crystal Displays

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2008-04, Vol.47 (4R), p.2152
Hauptverfasser:	Chen, Chao-Nan, Wu, Gwo-Mei, Feng, Wu-Shiung, Jean, Hao-Wen
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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