A New Cerium-Based Ternary Oxide Slurry, CeTi 2 O 6 , for Chemical-Mechanical Polishing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2007-03, Vol.46 (3R), p.977
Hauptverfasser:	Yoshida, Masato, Koyama, Naoyuki, Ashizawa, Toranosuke, Sakata, Yoshihisa, Imamura, Hayao
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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