High-Quality Polycrystalline Silicon Films with Minority Carrier Lifetimes over 5 µs Formed by Flash Lamp Annealing of Precursor Amorphous Silicon Films Prepared by Catalytic Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2007-11, Vol.46 (11R), p.7198
Hauptverfasser: Ohdaira, Keisuke, Nishizaki, Shogo, Endo, Yohei, Fujiwara, Tomoko, Usami, Noritaka, Nakajima, Kazuo, Matsumura, Hideki
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.46.7198