Critical Thickness of Strained Si on SiGe Bulk Virtual Substrate by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2007-10, Vol.46 (10R), p.6598
Hauptverfasser: Senda, Takeshi, Igarashi, Masato, Izunome, Koji, Mitani, Shinichi
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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