Critical Thickness of Strained Si on SiGe Bulk Virtual Substrate by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2007-10, Vol.46 (10R), p.6598
Hauptverfasser:	Senda, Takeshi, Igarashi, Masato, Izunome, Koji, Mitani, Shinichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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