Influence of Thermal Annealing on Microstructures of Zinc Oxide Films Deposited by RF Magnetron Sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2007-06, Vol.46 (6R), p.3319
Hauptverfasser: Hiramatsu, Takahiro, Furuta, Mamoru, Furuta, Hiroshi, Matsuda, Tokiyoshi, Hirao, Takashi
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.46.3319