Development of Microwave-Excited Plasma-Enhanced Metal–Organic Chemical Vapor Deposition System for Forming Ferroelectric Sr 2 (Ta 1-x ,Nb x ) 2 O 7 Thin Film on Amorphous SiO 2

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2007-04, Vol.46 (4S), p.2200
Hauptverfasser:	Takahashi, Ichirou, Funaiwa, Kiyoshi, Azumi, Keita, Yamashita, Satoru, Shirai, Yasuyuki, Hirayama, Masaki, Teramoto, Akinobu, Sugawa, Shigetoshi, Ohmi, Tadahiro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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