Effect of Plasma Gases on Insulating Properties of Low-Temperature-Deposited SiOCH Films Prepared by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2007-04, Vol.46 (4S), p.1997
Hauptverfasser:	Yamaoka, Keisuke, Okada, Naomichi, Yoshizako, Yuji, Terai, Yoshikazu, Fujiwara, Yasufumi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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