Design and Lithographic Characteristics of Alicyclic Fluoropolymer for ArF Chemically Amplified Resists

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2006-12, Vol.45 (12L), p.L1230
Hauptverfasser:	Maeda, Katsumi, Nakano, Kaichiro, Shirai, Masamitsu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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