Demonstrative Experiment for Single-Ion Implantation Technique Using Highly Charged Ions

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2006-02, Vol.45 (2R), p.995
Hauptverfasser: Yoshiyasu, Nobuo, Takahashi, Satoshi, Shibata, Masa-aki, Shimizu, Hiroshi, Nagata, Kazuo, Nakamura, Nobuyuki, Tona, Masahide, Sakurai, Makoto, Yamada, Chikashi, Ohtani, Shunsuke
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.1143/JJAP.45.995