Characterization of 45 nm Attenuated Phase Shift Mask Lithography with a Hyper Numerical Aperture ArF Tool

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2006-06, Vol.45 (6S), p.5391
Hauptverfasser:	Sato, Takashi, Endo, Ayako, Mimotogi, Akiko, Mimotogi, Shoji, Sato, Kazuya, Tanaka, Satoshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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