Newly Developed Resolution Enhancement Lithography Assisted by Chemical Shrink Process and Materials for Next-Generation Devices

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2006-06, Vol.45 (6S), p.5354
Hauptverfasser:	Terai, Mamoru, Kumada, Teruhiko, Ishibashi, Takeo, Hanawa, Tetsuro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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