Novel Back End-of-Line Process Scheme for Improvement of Negative Bias Temperature Instability Lifetime

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2006-04, Vol.45 (4R), p.2455
Hauptverfasser:	Ho, Won-Joon, Park, Sung-Hyung, Kim, Dong-Sun, Han, In-Shik, Lee, Hi-Deok, Kim, Jae-Yeong, Park, Yu-Be, Kim, Dae-Byung
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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