Ultimate Top-down Etching Processes for Future Nanoscale Devices: Advanced Neutral-Beam Etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2006-04, Vol.45 (4R), p.2395
1. Verfasser:	Samukawa, Seiji
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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