Metal Chloride Reduction Chemical Vapor Deposition for Ta, Mo and Ir Films

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2004-01, Vol.43 (1A/B), p.L56-L59
Hauptverfasser:	Ogura, Yuzuru, Kobayashi, Chikako, Ooba, Yoshiyuki, Sakamoto, Hitoshi, Yahata, Naoki, Nishimori, Toshihiko
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!