Fabrication of Indium Phosphide Compound Photonic Crystal by Hydrogen Iodide/Xenon Inductively Coupled Plasma Etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2004-11, Vol.43 (No. 11A), p.L1400-L1402
Hauptverfasser: Fujita, Masayuki, Sugitatsu, Atsushi, Uesugi, Toshitsugu, Noda, Susumu
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
DOI:10.1143/JJAP.43.L1400