Shallow Trench Isolation Top Corner Rounding Using Si Soft Etching Following Diluted Hydrofluorine Solution

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2004-11, Vol.43 (11A), p.7701-7704
Hauptverfasser:	Mun, Seong Yeol, Shin, Kyeong Cheol, Yoon, Ki Chae, Kwak, Jong Seok, Ryu, Hyuk Hyun, Jeong, Yang Hee
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!