Improvement of the Crystal Orientation and Surface Roughness of Ru Thin Films by Introducing Oxygen during Sputtering

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2004-01, Vol.43 (1), p.277-280
Hauptverfasser:	Abe, Yoshio, Shinkai, Satoko, Sasaki, Katsutaka, Yan, Jiwang, Maekawa, Kouki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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