Structural Evaluation of Cu Films Grown by Cl 2 Plasma

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003-11, Vol.42 (Part 1, No. 11), p.6820-6822
Hauptverfasser:	Ohba, Yoshiyuki, Sakamoto, Hitoshi, Ogura, Yuzuru, Yahata, Naoki, Nishimori, Toshihiko, Hatayama, Kenichiro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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