Physical and Barrier Properties of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposited α-SiCN:H Films with Different Hydrogen Contents

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003, Vol.42 (Part 1, No. 8), p.5246-5250
Hauptverfasser:	Chiang, Chiu-Chih, Chen, Mao-Chieh, Ko, Chung-Chi, Jang, Syun-Ming, Yu, Chen-Hua, Liang, Mong-Song
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!