Physical and Barrier Properties of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition α-SiC:N:H Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003, Vol.42 (Part 1, No. 7A), p.4489-4494
Hauptverfasser:	Chiang, Chiu-Chih, Wu, Zhen-Cheng, Wu, Wei-Hao, Chen, Mao-Chieh, Ko, Chung-Chi, Chen, Hsi-Ping, Jang, Syun-Ming, Yu, Chen-Hua, Liang, Mong-Song
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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