Fabrication and Characterization of Non-Doped SiO 2 Cladding Layer for Polarization-Insensitive Silica Waveguide by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003-07, Vol.42 (Part 1, No. 7A), p.4340-4344
Hauptverfasser:	Ohkubo, Hiroyuki, Hongo, Akihito, Kashimura, Seiichi, Ohkawa, Masahiro, Ohira, Kentaro, Uetsuka, Hisato, Okano, Hiroaki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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