Fabrication of CoSi 2 -Buried-Metal-Layer Si Substrates for Infrared Reflection Absorption Spectroscopy by Wafer-Bonding

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003-06, Vol.42 (Part 1, No. 6B), p.3942-3945
Hauptverfasser:	Yamamura, Shusaku, Yamauchi, Shouichi, Watanabe, Satoru, Tabe, Michiharu, Kasai, Toshio, Nonogaki, Youichi, Urisu, Tsuneo
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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