Sub-10-nm-Scale Lithography Using p -chloromethyl-methoxy-calix[4]arene Resist

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003-06, Vol.42 (Part 1, No. 6B), p.3913-3916
Hauptverfasser:	Ishida, Masahiko, Fujita, Jun-ichi, Ogura, Takashi, Ochiai, Yukinori, Ohshima, Eiji, Momoda, Junji
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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