Characterization of Line Edge Roughness in Resist Patterns by Using Fourier Analysis and Auto-Correlation Function

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003, Vol.42 (Part 1, No. 6B), p.3763-3770
Hauptverfasser:	Yamaguchi, Atsuko, Komuro, Osamu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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