Effect of Substrate Bias Voltage on the Thermal Stability of Cu/Ta/Si Structures Deposited by Ion Beam Deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003, Vol.42 (Part 1, No. 5A), p.2780-2785
Hauptverfasser:	Lim, Jae-Won, Mimura, Kouji, Miyake, Kiyoshi, Yamashita, Mutsuo, Isshiki, Minoru
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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