Pulsed-Source MOCVD of High- k Dielectric Thin Films with in situ Monitoring by Spectroscopic Ellipsometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2003, Vol.42 (Part 1, No. 4B), p.1957-1961
Hauptverfasser:	Tsuchiya, Yoshishige, Endoh, Masato, Kurosawa, Masatoshi, Tung, Raymond T., Hattori, Takeo, Oda, Shunri
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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