Nanopatterning with Microdomains of Block Copolymers using Reactive-Ion Etching Selectivity

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2002, Vol.41 (Part 1, No. 10), p.6112-6118
Hauptverfasser:	Asakawa, Koji, Hiraoka, Toshiro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!