$Evaluation of Lattice Strain in Silicon Substrate Beneath Aluminum Conductor Film Using High-Resolution X-Ray Microbeam Diffractometry$

Evaluation of Lattice Strain in Silicon Substrate Beneath Aluminum Conductor Film Using High-Resolution X-Ray Microbeam Diffractometry

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2002, Vol.41 (Part 1, No. 10), p.6094-6097
Hauptverfasser:	Yokoyama, Kazushi, Kurihara, Hideaki, Takeda, Shingo, Urakawa, Masafumi, Watanabe, Kyoko, Katou, Madomi, Inoue, Naoyuki, Miyamoto, Naoki, Tsusaka, Yoshiyuki, Kagoshima, Yasushi, Matsui, Junji
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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