CH 4 /N 2 Plasma Etching for Organic Low- k Dielectric Material

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2002-09, Vol.41 (Part 1, No. 9), p.5775-5781
Hauptverfasser:	Nakagawa, Hideo, Morikawa, Yasuhiro, Takano, Midori, Tamaoka, Eiji, Hayashi, Toshio
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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