In-depth profile of electrical property of InAs epitaxial layer grown on semi-insulating GaAs by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition

Indium arsenide layers of various thicknesses were grown on semi-insulating GaAs by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) using trimethylindium (TMIn) and tertiarybutylarsine (TBAs) as precursors. On the assumption that properties of the underlying grown layer do not change dur...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 1993-03, Vol.32 (3B), p.L368-L370
Hauptverfasser: IWAMURA, Y, SHIGETA, H, WATANABE, N
Format: Artikel
Sprache:eng
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!