In-depth profile of electrical property of InAs epitaxial layer grown on semi-insulating GaAs by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition
Indium arsenide layers of various thicknesses were grown on semi-insulating GaAs by low-pressure metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) using trimethylindium (TMIn) and tertiarybutylarsine (TBAs) as precursors. On the assumption that properties of the underlying grown layer do not change dur...
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | Japanese Journal of Applied Physics 1993-03, Vol.32 (3B), p.L368-L370 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Schreiben Sie den ersten Kommentar!