Formation of Ultrafine Particles by Gas-Evaporation Technique. V. Silicon and Germanium in Argon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 1978, Vol.17 (2), p.291-297
Hauptverfasser:	Saito, Yahachi, Yatsuya, Shigeki, Mihama, Kazuhiro, Uyeda, Ryozi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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