Etching Characteristics of Various Materials by Plasma Reactive Sputter Etching

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 1978-01, Vol.17 (1), p.235-236
1. Verfasser:	Matsuo, Seitaro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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