Homogeneous TiO 2 –SiO 2 Ultralow-Expansion Glass for Extreme Ultraviolet Lithography Evaluated by the Line-Focus-Beam Ultrasonic Material Characterization System

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics express 2008-08, Vol.1, p.87002
Hauptverfasser:	Kushibiki, Jun-ichi, Arakawa, Mototaka, Ueda, Tetsuji, Fujinoki, Akira
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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