Effect of Phosphorus Atom in Self-Assembled Monolayer as a Drift Barrier for Advanced Copper Interconnects

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics express 2008-06, Vol.1, p.65003
Hauptverfasser:	Yoshino, Takenobu, Hata, Nobuhiro, Muramoto, Ikuyo, Machida, Hideaki, Kikkawa, Takamaro
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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