Influence of treatment in the (O2,H2) plasma on the structure and physical properties of SnO x films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Physics of the solid state 2011-02, Vol.53 (2), p.390-397
1. Verfasser:	Beisenkhanov, N. B.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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