Modeling of deep grooving of silicon in the process of plasmochemical cyclic etching/passivation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Russian microelectronics 2007-07, Vol.36 (4), p.241-250
Hauptverfasser:	Shumilov, A. S., Amirov, I. I.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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