On the mechanism of remote plasma-enhanced chemical vapor deposition of films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	High energy chemistry 2008-07, Vol.42 (4), p.332-334
Hauptverfasser:	Polyakov, O. V., Badalyan, A. M., Bakhturova, L. F., Borisov, V. O.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Chemistry Chemistry and Materials Science Physical Chemistry Short Communications
Online-Zugang:	Volltext
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