Formation of higher manganese silicide films on silicon

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Technical physics 2005-08, Vol.50 (8), p.1102-1104
Hauptverfasser:	Kamilov, T. S., Kabilov, D. K., Samiev, I. S., Khusnutdinova, Kh. Kh, Muminov, R. A., Klechkovskaya, V. V.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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