Low-power inductive RF plasma sources for technological applications

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Plasma physics reports 2004-08, Vol.30 (8), p.687-697
Hauptverfasser:	Vavilin, K. V., Rukhadze, A. A., Ri, M. Kh, Plaksin, V. Yu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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