Controlling plasma composition during carbon film deposition in microwave discharges by means of optical-emission spectroscopy

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Plasma physics reports 2003-09, Vol.29 (9), p.789-795
Hauptverfasser: Dvorkin, V. V., Dzbanovskii, N. N., Minakov, P. V., Suetin, N. V., Yur'ev, A. Yu
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1063-780X
1562-6938
DOI:10.1134/1.1609583