A study of an Al-Ge3N4-Ge structure by the method of photo-capacitance-voltage characteristics

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductors (Woodbury, N.Y.) N.Y.), 2000-01, Vol.34 (10), p.1183-1185
Hauptverfasser: Dzhanelidze, R. B., Dzhanelidze, M. B., Katsiashvili, M. R.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1063-7826
1090-6479
DOI:10.1134/1.1317580